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制造

首頁 產(chǎn)品與技術(shù) 制造類EDA

FabLitho

先進(jìn)的光刻工藝建模和仿真工具

光刻工藝建模平臺 光刻膠模型 弱點圖形優(yōu)化

FabLitho 是一款國內(nèi)領(lǐng)先的光刻工藝建模和仿真工具，可針對多種投影設(shè)備建立包含鏡頭畸變的光學(xué)模型，并通過高自由度的建模方法模擬光刻膠在不同條件下的性能表現(xiàn)。

  • 適用于先進(jìn)工藝節(jié)點。

  • 覆蓋半導(dǎo)體芯片制造、平板顯示制造、先進(jìn)芯片封裝等應(yīng)用領(lǐng)域。

  • 已在國內(nèi)部分先進(jìn) Fab 中成功驗證。

  • 通過嚴(yán)格仿真的方法獲取不同工藝參數(shù)下工藝窗口數(shù)值，有效減少晶圓曝光和人工量測的需求，大幅提升工藝開發(fā)效率。

  • 支持與其他工藝仿真工具結(jié)合，應(yīng)用于掩膜版關(guān)鍵圖形的工藝仿真優(yōu)化，降低實際生產(chǎn)中圖形失效的風(fēng)險。

下載產(chǎn)品單頁

產(chǎn)品亮點

  • 業(yè)界標(biāo)準(zhǔn)的光學(xué)模型

    支持掩模版三維效應(yīng)、
    FreeForm 光源

  • 光刻設(shè)備模型

    支持投影倍率、入射角度、
    鏡頭畸變、瓊斯矩陣

  • 業(yè)界標(biāo)準(zhǔn)的經(jīng)驗?zāi)Ｐ?/h3>

    包含 Dill 模型，曝光后烘烤擴散和化學(xué)反應(yīng)
    模型，曝光后顯影模型，光刻膠收縮效應(yīng)

  • 多種曝光工藝

    支持單次曝光工藝、二次曝光工藝(LLE)
    和多焦深成像工藝(MFI)

  • 光刻膠模型校準(zhǔn)功能

    內(nèi)建多參數(shù)優(yōu)化引擎，可以根據(jù)晶圓數(shù)據(jù)
    和光學(xué)參數(shù)擬合光刻膠模型

  • 靈活的數(shù)據(jù)可視化界面

    支持仿真結(jié)果
    和外部數(shù)據(jù)的可視化

  • 豐富的二次開發(fā)接口

    內(nèi)置C和Python開發(fā)接口，
    CVS和JSON數(shù)據(jù)交互格式

  • 多格式輸出

    支持輸出 TXT、GDSII、STL
    文件格式

產(chǎn)品應(yīng)用

  • 光刻工藝的工藝窗口
    仿真和參數(shù)優(yōu)化

  • 關(guān)鍵圖形
    仿真和優(yōu)化

  • OPC模型參數(shù)
    開發(fā)輔助

  • 光刻膠和光刻設(shè)備
    參數(shù)評估和優(yōu)化

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